GM 研發型粉末ALD
產品概況
GM系列自動粉末原子層沉積設備可以在微納米粉體上實現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長。該系統具有專利粉末樣品桶、動態粉末流化機構、全自動溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動溫度控制閥、工業級安全控制等設計選項，是先進能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發工具。
技術優勢
良好的均勻性與批次穩定性＜3%
前驅體最大可包括2組反應氣體，5組液態或固態反應前驅體
可實現高達100ml/1000ml粉末原子層沉積包覆
包覆材料品質優異，材料成分可實現原子層級別單相或多相設計
產品視頻
應用領域
FAQ
韞茂科技的粉末ALD包括哪些產品
韞茂粉末ALD設備包括工業型及科研型兩大分類，KG屬于工業型設備，主要用于工廠量產，系列產品為KG10、KG20、KG40、KG100
用ALD包覆與傳統的溶液法等相比有什么優勢
ALD 通過原子級精準控制、強界面結合、溫和工藝和復雜結構適應性，解決了傳統溶液法和固相法在包覆過程中的均勻性差、厚度不可控、基底損傷等核心問題
GM主要能沉積哪些薄膜
氧化物：如Al2O3、ZnO2、HfO2、TiO2、SiO2、SnO2等；磷酸鹽、含鋰化合物：TiPO4、AlPO4、LiNbO3、LixTiyOz等；金屬：如 Cu、Pt、W 薄膜
GM系列的粉末處理量最大是多少
GM100和GM1000處理量分別為100g及1000g
GM的應用領域主要有哪些
鋰電領域：用于提升電池性能，改善電極材料性能；催化領域：制備高效催化劑，優化催化劑性能；金屬粉末處理領域：改善粉末流動性，提高防潮 / 抗氧化性，改善燒結界面；新材料開發領域：納米材料表面修飾，制備新型薄膜材料；制藥領域：改善粉末性能，實現藥劑緩釋
