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CBATCH 100s 批次熱ALD

韞茂科技產品概況

4/6 inch LED 生產線的原子層沉積系統(tǒng),面向圖形化和平面藍寶石襯底微納器件氧化層封裝鍍膜的需要。

韞茂科技技術優(yōu)勢

專利的架構設計,有效提高產能,降低COO

可擴展模塊設計,產能、腔體增加同時保證鍍膜質量

獨特氣流設計,多片鍍膜保持良好的WIW均勻性?NU<1.5%,W2W<2.5%,B2B<2.5%,前驅體消耗量更少

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產品分類

應用領域

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Mini/Micro LED

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VCSEL

FAQ

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CBATCH的控溫均勻性如何?

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工藝腔采用內、外腔設計,具有出色的溫控均勻性

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CBATCH的對顆粒度的控制如何?

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腔體內部采用高真空傳輸,極致Particle表現,實現高潔凈度生產

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CBATCH的主要有哪些領域的工藝應用?

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mini LED背光鈍化、RGB紅黃提亮及鈍化、高功率GaN LED鈍化、Vcsel鈍化、Micro LED顯示側壁鈍化等

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CBATCH的做出的膜層相較其他競品有什么優(yōu)勢?

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1、提高器件雙85良品率; 2、降低器件反向漏電; 3、超大產能有效降低COO; 4、多腔體設計可保證更高的潔凈度,適合Micro LED及微顯示、車載等高端產品量產等

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PBATCH 批次等離子體ALD
PBATCH-A300 批次等離子體ALD(EFEM可選)
Multi Pbatch 批次等離子體ALD
CBATCH 100s 批次熱ALD
CBATCH 300s 批次熱ALD
QBT-A 300 CLUSTER 高真空等離子體 ALD 集群系統(tǒng)
MPCVD 金剛石CVD
QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設備
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系統(tǒng)
KG 工業(yè)級粉末ALD
SCA 工業(yè)級粉末CVD
QBT-J 300 超高真空互聯多腔體互聯約瑟夫森結制造系統(tǒng)
QBT-P300 Cluster 超高真空磁控濺射集群系統(tǒng)
QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
MINI 科研型桌式ALD
PVD100 雙腔室高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P 雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPV 雙腔室多靶槍公轉超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPC 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPC 2000 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPL4 四腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-J 四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統(tǒng)
QBT-J compact 緊湊型雙腔室雙傾角超高真空鍍膜系統(tǒng)
QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
QBT-I 雙腔室高速超高真空鍍膜系統(tǒng)
GM 研發(fā)型粉末ALD
QBT-C200 高真空等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)
QBT-T 雙腔室等離子體硅片及粉末ALD

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