PBATCH-A300 批次等離子體ALD（EFEM可選）
產(chǎn)品概況
可實(shí)現(xiàn)低溫高質(zhì)量PEALD工藝，可在溫度敏感的襯底上，沉積SiO2、Al2O3、TiO2等高質(zhì)量的光學(xué)薄膜。亦可在玻璃、硅片、陶瓷、有機(jī)材料、高分子材料、金屬等材質(zhì)的基底沉積多種類型的ALD薄膜?？赏瑫r(shí)兼容熱式ALD及等離子體增強(qiáng)ALD工藝。批次性大產(chǎn)能結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，大幅提高ALD產(chǎn)能，降低客戶使用成本。單位時(shí)間內(nèi)的處理量超越傳統(tǒng)PVD鍍膜設(shè)備。
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
提供自動(dòng)化EFEM上下料方案（兼容8/12英寸晶圓）
全自動(dòng)、多片、大批量生產(chǎn)，產(chǎn)能業(yè)界領(lǐng)先
可同時(shí)兼容熱式ALD及等離子體增強(qiáng)ALD工藝
可在同一工藝腔室內(nèi)實(shí)現(xiàn)等離子體清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2不同薄膜的任意組合交替沉積
可在整個(gè)鏡片的外表面及3D 微納結(jié)構(gòu)上進(jìn)行保形沉積
