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CIOE2025 | 韞茂科技與您相約中國光博會
2025-08-28
韞茂科技
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企業(yè)與展會介紹
廈門韞茂科技有限公司作為國家級專精特新“小巨人”企業(yè)，始終專注于納米級薄膜沉積技術的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化。其ALD、PVD、CVD等核心設備在光學領域?qū)崿F(xiàn)了多項突破性應用，包括批次等離子體ALD和批次熱式ALD，可精準制備高透光率、低缺陷的光學薄膜，廣泛應用于超構表面器件、Mini/Micro LED顯示鍍膜及紅外增透膜等領域，有效填補了國產(chǎn)高端光學設備的空白。
在即將到來的2025年中國國際光電博覽會（CIOE）上，韞茂科技將攜全自動光學鍍膜設備及創(chuàng)新工藝重磅亮相，展出的前沿技術與本屆光博會“精密光學”“新型顯示”“AR & VR”等主題高度契合。韞茂將進一步推動國產(chǎn)化高端光學裝備在先進光顯等領域的規(guī)模化應用，深化與光電產(chǎn)業(yè)鏈的協(xié)同創(chuàng)新，為我國光電產(chǎn)業(yè)向高精度、智能化轉型升級提供關鍵支撐。
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展位指引
7號館7D56
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參展產(chǎn)品
PRODUCT
PBATCH批次等離子體ALD
應用于先進光學薄膜（AR）、第三代半導體、集成電路制造等領域
● 全自動、多片、大批量生產(chǎn)，產(chǎn)能業(yè)界領先
● 可在整個鏡片的外表面及3D微納結構上進行保形沉積
● 可在同一工藝腔室內(nèi)實現(xiàn)等離子體清洗，及SiO2、Al2O3、TiO2等不同薄膜的任意組合交替沉積
● 可沉積可見光范內(nèi)反射率R<0.1%的光學薄膜
CBATCH批次熱ALD
應用于光學薄膜、Mini/Micro OLED/LED、激光器件等領域
● 全自動、多片、連續(xù)化生產(chǎn)，現(xiàn)市場上最大產(chǎn)能的熱ALD，大幅降低COO
● 實現(xiàn)高深寬比結構的高質(zhì)量熱ALD鍍膜，薄膜無針孔，質(zhì)量高
● 均一性≤1.5%，多片鍍膜保持良好的WIW均勻性NU<1.0%，W2W<1.5%，B2B<2.0%
QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
應用于先進光波導 、傾斜光柵、光學器件鍍膜
● 超高真空腔體電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
● 基板可實現(xiàn)±180°傾斜及360°旋轉，0.1°的高精度精確控制
● 可集成離子源，實現(xiàn)離子束輔助沉積工藝
● 高度可靠和可重復的基板傳輸能力
● 全自動化人機操作界面
QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
可實現(xiàn)氮化物薄膜的極低氧含量，應用于微、納光電子器件、高品質(zhì)光學和光電子薄膜的研發(fā)與制造
● 高薄膜致密度
● 可在平面、異形曲面、復雜三維結構、多孔基板上沉積高純度ALD薄膜
● 具有優(yōu)異的臺階覆蓋性
● 適用于從低溫到高溫的全溫度范圍內(nèi)等離子體ALD薄膜生長（MAX500℃）
先進能源材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具
● 小巧（市場上占地面積最小的桌式ALD）
● 安靜、便捷，全自動人機操作界面
● 4組快拆式前驅(qū)體，抽屜式裝載，人機交互簡單便捷
● 可在4/6寸晶圓和微納米粉體上實現(xiàn)均勻可控的原子層沉積
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