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- PBATCH 批次等離子體ALD
- PBATCH-A300 批次等離子體ALD（EFEM可選）
- Multi Pbatch 批次等離子體ALD
- CBATCH 100s 批次熱ALD
- CBATCH 300s 批次熱ALD
- QBT-A 300 CLUSTER 高真空等離子體 ALD 集群系統
- MPCVD 金剛石CVD
- QBT-ADS 雙腔高真空雙面鍍膜PEALD設備
- SICE-Y8 碳化硅外延CVD系統
- KG 工業級粉末ALD
- SCA 工業級粉末CVD
- QBT-J 300 超高真空互聯多腔體互聯約瑟夫森結制造系統
- QBT-P300 Cluster 超高真空磁控濺射集群系統
- QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
- MINI 科研型桌式ALD
- PVD100 雙腔室高真空磁控濺射系統
- QBT-P 雙腔室超高真空磁控濺射系統
- QBT-P L3 三腔室超高真空磁控濺射系統
- QBT-MPV 雙腔室多靶槍公轉超高真空磁控濺射系統
- QBT-MPC 2000 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射鍍膜系統
- QBT-MPC 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統
- QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統
- QBT-MPL4 四腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統
- QBT-J 四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統
- QBT-J compact 緊湊型雙腔室雙傾角超高真空鍍膜系統
- QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發鍍膜系統
- QBT-I 雙腔室高速超高真空鍍膜系統
- QBT-C200 高真空等離子體增強化學氣相沉積系統
- GM 研發型粉末ALD
- QBT-T 雙腔室等離子體硅片及粉末ALD
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